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需求公示

机械学院等离子体增强化学气相沉积系统 采购信息公示

发布时间:2026-09-04 浏览次数:


我校近期拟对等离子体增强化学气相沉积系统启动采购程序,为充分创造条件让供应商参与我校采购项目,根据《政府采购信息发布管理办法》(财政部令〔2019101号)、《关于开展政府采购意向公开工作的通知》(财库〔202010号)精神,现将有关该项目的主要用途、功能及使用目的、采购需求(技术参数、主要配置、售后服务等)进行公示。详见附件:采购需求书。

本次公示是本单位采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

如有异议,请于本公示后五日内,书面送(寄)达我处,逾期不予接受。

实验室与设备管理处联系人:夏老师,联系电话    0511-88791357

 

实验室与设备管理处  

2026 94   

 


 

附件

采购需求书

一、项目概况及总体要求

(包括项目立项依据、采购预算(最高限价)及编制依据、总体要求等)

立项依据

近年来,学校在现代化农业装备、高端机械智能制造及机械电子技术领域持续投入科研力量和建设资源,深刻认识到农业装备智能化不仅依赖机械结构与控制技术的发展,也离不开先进材料、微纳器件、柔性传感器和集成电子制造技术的支撑。机械工程学院围绕智能农业装备、新能源装备、柔性机械电子及智能感知等方向开展了多方位研究,并已取得一系列科研成果。

新能源装备与柔性机械电子是机械工程学科的重要特色方向,其深入发展对农业装备智能感知、环境监测、能源采集、人机交互和高可靠电子系统的构建具有重要意义。相关研究涉及柔性传感器、薄膜器件、微纳电子器件、光伏器件、介电功能层、表面钝化层及封装阻隔层等多种结构,对薄膜材料的沉积温度、厚度均匀性、界面质量、绝缘性能和工艺重复性提出了较高要求。因此,高质量、低温、可控的薄膜制备设备已成为支撑相关科研项目持续推进的重要基础设施。

等离子体增强化学气相沉积系统是半导体器件、微纳制造和功能薄膜制备中的关键工艺设备。该设备通过射频电场激发工艺气体形成等离子体,利用其中活性粒子促进气相化学反应,可在相对较低的基片温度下沉积二氧化硅、氮化硅、非晶硅、碳化硅及其他介质或功能薄膜。与常规热化学气相沉积相比,PECVD具有沉积温度较低、成膜速率较高、膜层均匀性较好、工艺参数可调范围较宽及材料适应性较强等特点,特别适用于温度敏感基片和复杂器件结构。

本设备可用于制备SiO₂SiNₓa-SiSiCₓ及相关功能薄膜,并可通过调节射频功率、工艺压力、气体流量、气体比例和基片温度,对薄膜厚度、沉积速率、折射率、应力、致密度及绝缘性能进行调控。所制备薄膜可作为器件绝缘层、表面钝化层、介质层、光学膜、阻隔层、保护层、硬掩膜和功能敏感层,能够满足太阳能电池、柔性电子、微纳传感器、机械电子器件、光电器件及新能源装备等领域的研究需求。

等离子体增强化学气相沉积系统的引入,将显著提升学校在半导体薄膜、柔性器件和微纳电子制造方面的实验条件,完善薄膜沉积与器件加工工艺链,为科研人员提供稳定、可重复的介质及功能薄膜制备平台。同时,设备建设将促进机械工程、材料科学、电子工程、信息科学和新能源科学等学科之间的交叉融合,为高层次科研项目实施、研究生培养、科研成果转化及公共实验平台建设提供有力支撑。

本项目采购预算拟定为60万元,主要依据前期市场询价及兄弟院校同类设备购置价格综合测算确定。经对沈阳硕科、北京金盛微纳科技、沈阳搏锐源和沈阳思联等4家潜在供应商进行调研,同类磁控溅射真空镀膜设备报价约为50万元至70万元,结合高校和科研院所同档次国产设备公开采购价格,以及设备主机、电源、真空系统、基片加热、膜厚监测、控制系统、安装调试、运输保险、人员培训、验收测试、税费和质保服务等全部费用,适当预留配置完善和市场价格波动空间,最终将本项目采购预算确定为人民币60万元。

设备总体要求

本项目拟采购的等离子体增强化学气相沉积系统应为技术成熟、运行稳定、安全可靠的科研型薄膜制备设备,能够满足二氧化硅、氮化硅、非晶硅及其他介质或功能薄膜的低温沉积需求,并具备射频等离子体激发、基片加热、工艺气体精密控制、反应压力自动调节和真空沉积等基本功能。

设备整体设计应结构合理、操作方便,各组成部分之间匹配良好。系统至少应包括真空反应腔体、射频电源及自动匹配器、平行板电极或等效等离子体发生装置、加热样品台、喷淋式或均匀布气装置、真空泵组、真空测量装置、质量流量控制器、自动压力控制阀、冷却系统、控制软件和安全联锁系统。设备应具有良好的工艺稳定性和重复性,极限真空、抽气时间、工作压力、射频功率、基片温度、气体流量、沉积速率、膜厚均匀性及其他主要性能指标应达到采购文件和合同约定要求。控制系统应能够对工艺气体流量、腔体压力、射频功率、基片温度和沉积时间等参数进行设置、显示、记录和配方化管理,并具备运行状态监测、权限管理、故障诊断、异常报警和数据保存功能。真空泵、射频电源、自动匹配器、真空计、质量流量控制器、压力控制阀、温控器及控制系统等核心部件应采用质量可靠、性能稳定、便于维护且具有良好技术支持的成熟产品。设备应便于日常清洁、腔体维护和易损件更换,并应预留必要的维护空间和检修接口。

二、采购用途

采购用途:R科研  □教学  □医疗  □管理  □后勤  □其他

用途说明:

三、采购需求一览表(货物类):

序号

货物名称

是否为进口设备

单位

数量

是否属核心产品

1

等离子体增强化学气相沉积系统

1

四、技术指标(按一览表中货物分别填写)

1.   等离子体增强化学气相沉积系统        1 台)

序号

指标项

重要性

指标要求

关键指标理由

1

反应腔结构

采用平行板式PECVD反应腔,腔体材料为优质不锈钢或耐等离子体腐蚀的同等性能材料

腔体结构可影响等离子体效果

2

腔体结构形式

 

腔体应便于开启、清洁和维护,配置可拆卸内衬、屏蔽罩或等效防沉积结构

 

3

密封方式

 

采用可靠真空密封结构,密封件应耐受设备设计温度和工艺气体环境

 

4

腔体漏率

 

整体漏率优于 5×10-10Pa.m3/S,保压 12 小时,压强小于 10Pa

 

5

真空室极限真空

8×10-5Pa,大气至 6×10-4Pa 时间优于 35 分钟(充干燥氮气)

设备使用的核心参数

6

有效沉积面积

不小于直径100 mm

决定样品大小

7

布气方式

 

采用喷淋式电极、均匀布气盘或等效均匀布气结构

 

8

最高工作温度

不低于300℃

消除杂质气体,保证薄膜成分纯度,提升成膜均匀性与沉积速率

9

温度均匀性

 

100 mm有效样品区域内,300℃条件下温度均匀性不大于±5℃

 

10

射频频率

 

13.56 MHz

 

11

射频输出功率

 

不低于600 W,连续可调

 

12

脉冲直流电源

 

1000W2

 

13

射频溅射电源

 

1台功率600W,自动匹配

 

14

气路数量

配置不少于5路独立工艺气路

气路数量是核心工艺参数之一

15

建议气体配置

 

满足SiH₄稀释气、N₂ONH₃N₂Ar等气体接入要求;最终气体种类由采购人确认

 

16

供电

 

380V,功率8KW;三相五线制供电

 

17

冷却水循环量

 

0.5m3/H,水温:535℃

 

18

工作环境温度

 

10℃40℃

 

19

镀膜厚度均匀性

±5%(基片台范围内)

沉积薄膜厚度是衡量该类设备的重要参数之一

20

适配材料

适配金属、SiO₂SiNₓa-Si:H

材料种类

: 表中代表关键指标,不满足该指标项将导致响应被拒绝;

工程类须另附:施工图纸、工程量清单、主材清单(如有)、控制价等。

五、商务和服务需求

序号

商务和服务项目

重要性

商务和服务要求

1

供货期

重要

签订合同后90天内完成安装调试并具备验收条件

2

质保限

重要

验收合格后1年质保期

3

原厂售后

服务承诺

重要

0  1 年免费保修、电话报修后  48 小时上门服务、   72小时内排除故障、原厂工程师(及以上)服务的原厂商售后服务承诺函;

4

服务标准

重要

所有硬件  1 年免费保修、所有软件  5年免费保修升级、电话报修后  48 小时上门服务、 72  小时内排除故障。

所有硬件过 1  年免费保修期后按原价维修(按投标货物价格数量表所列价格,更换零部件的按合同签订时的零部件价格)、所有软件过 5  年免费保修升级期内按按原价的 0  %进行维修升级,响应速度同保修期响应速度。

5

培训

重要

提供不少于 3 天不少于  2 的主要设备厂商(认证的)工程师安装配置等实操培训课程,场地、交通等与培训相关的费用均由成交供应商承担。

6

验收标准

重要

实物配置与合同完全一致,无缺件、非标配;

全套原厂技术资料、软件授权完整;

设备安装、安全、场地条件符合规范;

全部软硬件功能正常,无故障报错;

实际工艺测试满足科研使用,薄膜性能达标;

长时间连续运行稳定,无频发故障;

厂家完成完整培训,质保售后条款履约到位。

7

付款方式

重要

国产设备:货物经甲方验收合格后三十个工作日内,甲方支付合同总额的90%给乙方;设备验收合格一年后三十个工作日内,甲方支付合同总额的8%给乙方;保修期满后三十个工作日内,甲方支付合同总额的2%给乙方。

进口设备:100%不可撤销即期信用证(其中90%见单即付,10%凭甲方实验室与设备处盖章的验收报告支付

……

 

 

 

六、特定资格条件

除《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定的供应商应具备的条件外,采购人可以根据采购项目的特殊要求,规定供应商的特定资格条件,如国家或行业强制性标准等。但不得以不合理的条件对供应商实行差别待遇或者歧视待遇。

 

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